精密科技，引領未來研究與製造
Agilent – 全球領先的科學儀器與真空解決方案供應商
Agilent Technologies 是全球科學儀器與分析解決方案領域的領導品牌，致力於協助客戶在化學分析、生命科學、食品安全、製藥、材料科學與電子產業中推動創新。自 1999 年自惠普公司獨立以來，Agilent 以精準、可靠與創新為核心，持續為全球客戶提供高效的分析與真空技術。
Agilent 真空解決方案
真空與檢測的全方位解決方案
Agilent Technologies 在高科技真空技術領域具備超過 50 年的專業經驗，專精於半導體、光電與材料科學領域。Agilent 的優勢在於其科學根基深厚、儀器穩定性高，並具備全球技術支援能力。提供即時、高靈敏度的檢測方案，是推動智慧製造與品質創新的最值得信賴夥伴。
渦輪分子幫浦（Turbo Pump）
TwisTorr 系列渦輪分子幫浦以高轉速、高壓縮比與低震動設計，廣泛應用於半導體製程、光電元件製造與電子顯微鏡等精密設備。 獨家浮動懸吊系統與固態潤滑技術，確保幫浦在極端條件下仍能穩定運作，並大幅降低維護需求與污染風險。
- 高速低震動運行
- 節能設計與智慧溫控
- 模組化、體積小、安裝靈活
氣密測漏儀（Leak Detector）
VS 系列氦氣測漏儀提供業界領先的靈敏度與快速反應時間，支援多語言介面與自動化測試流程， 適用於晶圓廠、真空腔體檢測與精密封裝測試。其高效離子源與光束光學設計， 能精準分離微量漏氣訊號，提升生產效率與品質控管能力。
- 偵測靈敏度達 10⁻¹² mbar·L/s
- 支援嗅探與真空兩種操作模式
- 簡易操作介面，快速反應
為什麼選擇 Agilent？
高效真空技術
渦輪分子幫浦，穩定、低震動、低維護
精準測漏能力
VS 系列氦氣測漏儀，靈敏度高、反應快
智慧操作介面
支援自動化與遠端監控，提升效率
全球技術支援
在地化服務，快速回應，穩定生產不中斷
各產業適用
半導體、光電、精密製造的理想選擇
實際應用情境
ALD 原子層沉積製程
ALD 製程常用於沉積閘極氧化層與阻障層，需極高真空與潔淨環境。Turbo Pump 可迅速將腔體抽至 10⁻⁶ Torr，減少分子碰撞與雜質干擾；Leak Detector 則定期檢查微漏風險，避免污染滲入，確保薄膜品質穩定。
✅ 成效：提升薄膜均勻性、減少缺陷率、降低腔體維護頻率
EUV 光罩轉送系統
EUV 光罩在轉送過程中極度仰賴穩定真空與無塵環境。Turbo Pump 為每段傳輸艙迅速建立真空，降低光罩暴露風險；Leak Detector 協助偵測微漏，預防空氣滲入造成污染。
✅ 成效：穩定 EUV 曝光品質、延長光罩使用壽命、降低機台停機風險
了解更多 Agilent 解決方案
想了解如何為您的製程或研發帶來突破？歡迎聯絡我們！
相關產品
-
/ 產品規格 /Agilent Turbo-V 與 TwisTorr 系列渦輪分子幫浦，專為應對半導體製造中的高潔淨度、高稼動率與多變氣體負載條件所設計，是電子顯微鏡（EM）、量測檢... -
/ 產品規格 /Agilent 提供全方位的氣密測漏解決方案，其核心優勢在於：協助客戶最大化生產稼動率與系統可用時間，確保設備穩定運行、產線不中斷。