Cemecon 鍍膜設備

德國 CEMECON 公司是一家專業製造真空鍍膜設備，並提供頂級鍍膜服務的公司，擁有世界先進刀具鍍膜技術與卓越的開發創新能力，目前擁有十幾項硬質合金鍍膜面的專利技術。

CEMECON 公司與德國著名的亞琛大學長期保持穩固及緊密的技合作關係，目前該中心擁有數十套鍍膜制程設備，為世界各國製造業提供最優質的服務。

 

CemeCon 品牌優勢

 


HiPIMS採用惰性氣體進行離子撞擊靶材，金屬離化過程熱含較低，可用於更多低熔點的金屬上，對於未來新製程元素發展上，比ARC系統更具優勢。


HiPIMS濺鍍對3D形貌有極佳的繞射表現。刀具於外圓面及溝底膜厚較平均,  有著一致的塗層厚度。


HiPIMS採用惰性氣體進行離子撞擊靶材，金屬離化過程熱含較低，可用於更多低熔點的金屬上，對於未來新製程元素發展上，比ARC系統更具優勢。


HiPIMS工藝實現的高金屬電離，確保達到了高達130 N 的耐刮擦試驗，其塗層既堅硬又堅韌。
 

客戶類型

 

純HiPIMS塗層系統規格表 :  CC800 HiPIMS

CC800ⓇHiPIMS
塗覆區域，Ø x h [mm] Ø400 x 400
轉台，Ø x Ø 行星輪 x 數量 [mm],個數 Ø400 x Ø130 x 6
快速更換轉台   可選
濺射陰極 個[mm] 6 x 500 (其中4個用於HiPIMS/DC, 其它2個用於DC;所有陰極配備遮板)
最大裝載尺寸 Ø x h [mm] Ø400 x 800
鑽頭裝載量Ø6mm x 60mm 支 1,800
刀片裝載量12.7mm x 3.5mm 片 4,920
最大裝載重量 [kg] 250
沉積速度 μm/h 在純HiPIMS模式下2μm/h。
在DC或組合模式下可達3μm/h。
FerroConⓇ*塗層循環時間 [h] 4.5
工藝   使用Booster技術的HiPIMS和濺射，所有CemeCon塗層均可沉積。
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