Agilent Turbo Pump

Agilent Turbo-V 與 TwisTorr 系列渦輪分子幫浦,專為應對半導體製造中的高潔淨度、高稼動率與多變氣體負載條件所設計,是電子顯微鏡(EM)、量測檢查、PVD、CVD 及離子佈植等製程的理想真空解決方案。
產品簡介
​​品牌簡介

Agilent Technologies 是全球科學儀器與分析解決方案領域的領導品牌,致力於協助客戶在化學分析、生命科學、食品安全、製藥、材料科學與電子產業中推動創新。自 1999 年自惠普公司獨立以來,Agilent 以精準、可靠與創新為核心,持續為全球客戶提供高效的分析與真空技術。

品牌詳細介紹 ​​

專為半導體真空製程打造的高效能核心系統

在先進製程持續推進的今日,真空穩定性已成為半導體設備不可妥協的關鍵要求。 Agilent Turbo-V 與 TwisTorr 系列渦輪分子幫浦,專為應對半導體製造中的高潔淨度、 高稼動率與多變氣體負載條件所設計,是電子顯微鏡(EM)、量測檢查、PVD、CVD 及離子佈植等製程的理想真空解決方案。

產品優勢一覽

穩定抽氣效能

提供從 70 l/s 至 2000 l/s 的抽速選擇,適用於 SEM、e-beam、離子佈植與蝕刻機台。

高氣體通量處理能力

特別針對高氣體負載製程優化,能迅速回復進氣造成的中斷。

靜音與低震動設計

專利雙層減振結構,降低振動與噪音,提升量測穩定性。

模組化設計,維護簡便

搭配智慧型驅動器,簡化保養流程,縮短停機時間。

高相容性與彈性整合

支援多種法蘭規格,輕鬆整合至既有設備或新系統。

TwisTorr 系列亮點

TwisTorr 採用獨特螺旋流道設計,結合分子與機械泵原理, 對重分子氣體(如 Ar、N₂)具高抽氣效率,適用於 PVD、電漿蝕刻與 ALD 製程。

推薦應用場景

  • CD-SEM / DR-SEM / eBeam 檢查系統
  • 薄膜沉積(PVD、ALD)
  • 離子佈植與電漿製程
  • 真空轉運腔體(Load Lock)
  • 分析儀器(如 SIMS、XPS、AES)

Agilent — 值得信賴的真空夥伴

身為真空科技的領導品牌,Agilent 結合數十年研發經驗與全球技術支援網絡, 致力於提供高效、可靠且易於整合的真空解決方案,助力半導體製造邁向更高品質與產能。